با توجه به منابعی در صنعت از طریق DigiTimes، کمپانی TSMC تولید انبوه لیتوگرافی 5 نانومتری خود را در مارس 2020 آغاز خواهد کرد، زمانی که شرکتهای دیگر طراحیهای خود با چیپهای 5 نانومتری را شکل داده و میتوانند از آنها در محصولات آینده استفاده کنند. فناوری 5 نانومتری در تلاش است تا قانون Moore را دوباره به اجرا درآورد، با توجه به اینکه دو سال پس از نود 7 نانومتری عرضه میشود.
فناوری جدید قرار است از لیتوگرافی Extreme Ultra-Violet یا EUV استفاده کند، نود 5 نانومتری همچنین باز هم از ترانزیستورهای فعلی FinFET سود خواهد برد به علاوه آن که بهبودهایی در سرعت، قدرت و تراکم نسبت به تکنولوژی 7 نانومتری حاضر صورت میپذیرد. به نظر میرسد تا 15 درصد افزایش سرعت در حالی که تراکم تا 80 درصد افزایش خواهد یافت را شاهد باشیم که برای همه یک خبر عالیست. لازم به ذکر است که کاهش توان مصرفی نیز در این نود اعمال خواهد شد که گفته شده میتوان تا 30 درصد کاهش توان مصرفی را انتظار داشت، این موضوع را در کنار بهبود سرعت و تراکم قرار میدهد که نود جدید به ارمغان خواهد آورد.
دیدگاهتان را بنویسید